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欧宝体育在线官网:创芯未来 鹏城半导体亮相22碳基半导体材料与器件产业发展论坛

来源:欧宝体育直播nba 作者:欧宝体育最新官方入口2022-09-14 05:56:09

  半导体行业技术高、进步快,一代产品需要一代工艺,而一代工艺需要一代设备。全球半导体设备市场集中度高,主要有美日荷厂商垄断,国内自给率仅有 5%左右,国产替代空间巨大。尤其是随着摩尔定律趋近极限,半导体行业技术进步放缓,国内厂商与全球龙头技术差距正在逐渐缩短,未来 3-5 年将是半导体设备国产替代黄金战略机遇期。

  鹏城半导体技术(深圳)有限公司作为一家半导体材料、工艺和装备的研发设计、生产制造集一体的公司,由哈尔滨工业大学(深圳)与有多年实践经验的工程师团队共同发起创建。依托于哈尔滨工业大学(深圳),具备先进的半导体研发设备平台和检测设备平台,可以在高起点开展科研工作。公司人才团队知识结构完整,有以哈工大教授和博士为核心的高水平材料研究和工艺研究团队;还有来自工业界的高级装备设计师团队,他们具有20多年的半导体材料研究、外延技术研究和半导体薄膜制备成套装备设计、生产制造的经验。公司立足于技术前沿与市场前沿的交叉点,寻求创新引领与可持续发展,解决产业的痛点和国产化难题,争取产业链的自主可控。

  总部位于深圳市光明区,设有中试基地,并在沈阳市设有全资子公司,具备半导体装备的研发、生产、调试以及半导体材料与器件的中试、生产、销售的能力,未来将充分发挥在信息化领域的技术优势,以创新技术和产品持续为行业落地应用赋能,助力半导体产业协同创新发展。

  2022年8月3-5日,鹏城半导体技术(深圳)有限公司亮相由DT新材料主办的第二届碳基半导体材料与器件产业发展论坛(CarbonSemi 2022)展位号A20,相约浙江宁波东港喜来登酒店,欢迎大家莅临展位参观交流!

  薄膜沉积是集成电路制造过程中必不可少的环节,尤其是作为一种非热式镀膜技术应用在微电子领域占据重要地位。传统的薄膜沉积工艺主要有物理气相沉积(PVD)、化学气相沉积(CVD)等气相沉积工艺。

  高真空磁控溅射仪(磁控溅射镀膜机)是用磁控溅射的方法,制备金属、合金、化合物、半导体、陶瓷、介质复合膜及其它化学反应膜等;适用于镀制各种单层膜、多层膜、掺杂膜系及合金膜;可镀制磁性材料和非磁性材料。

  秉承设备为工艺实现提供实现手段的理念,我们做了如下设计和工程实现,实际运行效果良好,为用户的专用工艺实现提供了精准的工艺设备方案。

  靶材和靶面直接做到面接触是很难的,如果做不到面接触,接触电阻将增大,导致离化电场的幅值不够(接触电阻增大,接触面的电场分压增大),导致镀膜效果不好;电阻增大导致靶材发热升温,降低镀膜质量。靶材和靶面接触不良,导致水冷效果不好,降低镀膜质量。增加一层特殊导电导热的软薄的物质,保证面接触。

  距离可调整:基片和靶材之间的距离可调整,以适应不同靶材的成膜工艺的距离要求。

  角度可调:磁控溅射靶头可调角度,以便针对不同尺寸基片的均匀性,做精准调控。

  一体化柜式结构优点: 安全性好(操作者不会触碰到高压部件和旋转部件);占地面积小,尺寸约为:长1100mm×宽780mm(标准办公室门是800 mm宽)(传统设备大约为2200mm×1000mm),相同面积的工作场地,可以放两台设备。

  基片加热技术:采用铠装加热丝,由于通电加热的金属丝不暴露在真空室内,所以高温加热过程中不释放杂质物质,保证薄膜的纯净度。铠装加热丝放入均温器里,保证温常的均匀,然后再对基片加热。

  真空室内外,全部电化学抛光,完全去除表面微观毛刺丛林(在显微镜下可见),没有微观藏污纳垢的地方,腔体内表面积减少一倍以上,镀膜更纯净,真空度更高,抽速更快。

  2、磁控溅射靶数量及类型:1 ~ 6 靶,圆形平面靶、矩形靶3、靶的安装位置:由下向上、由上向下、斜向、侧向安装

  -基片加热器温度:根据用户供应要求配置,温度可用电脑编程控制,可控可调。

  -基片架公转速度:2 ~100 转 / 分钟,可控可调;基片自转速度:2 ~20 转 / 分钟。

  -Φ2 ~Φ3 英寸平面圆形靶 2 ~ 3 支,配气动靶控板,靶可摆头调角度。

  LPCVD设备是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。可用于科学研究、实践教学、小型器件制造。

  由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成。

  反应室由高纯石英制成,耐腐蚀、抗污染、漏率小、适合于高温使用; 设备电控部分采用了先进的检测和控制系统,量值准确,性能稳定、可靠。

  该设备是在低压高温的条件下,通过化学反应气相外延的方法在衬底上沉积各种功能薄膜(主要是Si3N4、SiO2及Poly硅薄膜)。

  设备为水平管卧式结构,由石英管反应室、隔热罩炉体柜、电气控制系统、真空系统、气路系统、温控系统、压力控制系统及气瓶柜等系统组成。

  反应室由高纯石英制成,耐腐蚀、抗污染、漏率小、适合于高温使用; 设备电控部分采用了先进的检测和控制系统,量值准确,性能稳定、可靠。

  整个工艺过程由计算机对全部工艺流程进行管理,实现炉温、气体流量、压力、阀门动作、泵的启闭等工艺参数进行监测和自动控制。也可以手动控制。

  设备主要用于微米晶和纳米晶金刚石薄膜、导电金刚石薄膜、硬质合金基金刚石涂层刀具、陶瓷轴承内孔镀金刚石薄膜等。例如可用于生产制造环保领域污水处理用的耐腐蚀金刚石导电电极。

  可用于平面工件的金刚石薄膜制备,也可用于刀具表面或其它不规则表面的金刚石硬质涂层制备。

  矩形工作尺寸的宽度600mm/长度可根据镀膜室的长度确定(如:工件长度1200mm)。

  可达300KW,1KW ~300KW可调(可根据用户工艺需求配置功率范围)

  双层水冷结构,立式圆形、立式D形、立式矩形、卧式矩形,前后开门,真空尺寸,根据工件尺寸和数量确定。

  可水冷、可加偏压、可旋转、可升降 ,由调速电机控制,可实现自动升降,(热丝与衬底间距在5 ~ 100mm范围内可调),要求升降平稳,上下波动不大于0.1mm。

  在此小编就不一一介绍了,咱们8月3日-8月5日相约宁波东港喜来登酒店了解更多。

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